Fen Plasma – aktivni kisik + ioni

Artikelnummer: GAM242-124719

140,00 

Fen Plasma je sušilnik za lase, ki uporablja plazemsko obdelavo z “aktivnim kisikom + ioni” in ekskluzivno UV-žarnico, namenjeno podpori bolj gladkih, sijočih in mehkejših rezultatov med sušenjem. Vključuje tudi stikalo za ionizacijo ON/OFF.

Opis

Plazemska obdelava: aktivni kisik + ioniziran zrak

Ionizacija ON/OFF: nadzor emisij negativnih ionov

Vse znanstvene raziskave in prednosti so opisane kot izvedene s strani Biomedical S.R.L. (biomedicinski center za dermatologijo in trihologijo).

  • Naj bi izboljševal Barva ob zaščiti lasje
  • Naj bi se integriral z Barva molekulami, kar naj bi podpiralo boljšo stabilnost in dlje trajajočo Barva
  • Vklop: lasje naj bi pridobili vlago, se počutili bolj gladko in bili brez statike
  • Izklop (O): lasje naj bi pridobili več Volumen in moč

Zakaj izbrati:

  • Plazemska obdelava v kombinaciji aktivni kisik + ioniziran zrak
  • Podpora Barva in zaščita Barva sta opisani kot del plazemske obdelave z aktivnim kisikom
  • Oblikovano za profesionalno uporabo v kontekstu: Frizerstvo | Brivstvo
Uporaba

Sušilnik je namenjen sušenju in oblikovanju lasje v kontekstu lasje salon / brivstvo. Med uporabo se lahko opisano funkcijo ionizacije uporabi glede na želeni učinek:

Za najboljše delovanje skozi čas se priporoča redno čiščenje filtra (glejte “Navodila za uporabo”).

Sušenje in oblikovanje

Čiščenje filtra (vzdrževanje)

Dodatne podrobnosti
Tip izdelka Feni in sušilci las
Volumen 25
Moč 2, 000
Teža 500 g